Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: https://evnuir.vnu.edu.ua/handle/123456789/22465
Назва: Хітозан для осадження дисперсії діоксиду силіцію
Автори: Будішевська, О.
Юринець, І.
Черкас, Ю.
Приналежність: Національний університет «Львівська політехніка», м. Львів, Україна
Бібліографічний опис: Будішевська О.,Юринець І.,Черкас Ю. Хітозан для осадження дисперсії діоксиду силіцію / О. Будішевська, І. Юринець, Ю. Черкас // Актуальні проблеми хімії, матеріалознавства та екології: матеріали ІІІ Міжнародної наукової конференції (Луцьк, 1-3 червня 2023 року). Луцьк, 2023. С.133-134
Конференція/захід: Актуальні проблеми хімії, матеріалознавства та екології
Дата публікації: 2023
Дата внесення: 21-чер-2023
Видавництво: Терен
Країна (код): UA
Місце видання, проведення: Луцьк
Діапазон сторінок: 133-134
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): https://evnuir.vnu.edu.ua/handle/123456789/22465
Тип вмісту: Conference Abstract
Розташовується у зібраннях:Актуальні проблеми хімії, матеріалознавства та екології, 2023

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
133-134.pdf131,89 kBAdobe PDFПереглянути/відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.