1. eVNUIR
  2. Матеріали наукових конференцій
  3. Актуальні проблеми хімії, матеріалознавства та екології, 2023
Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: https://evnuir.vnu.edu.ua/handle/123456789/22465
Повний запис метаданих
Поле DCЗначенняМова
dc.contributor.authorБудішевська, О.-
dc.contributor.authorЮринець, І.-
dc.contributor.authorЧеркас, Ю.-
dc.date.accessioned2023-06-21T11:35:59Z-
dc.date.available2023-06-21T11:35:59Z-
dc.date.issued2023-
dc.identifier.citationБудішевська О.,Юринець І.,Черкас Ю. Хітозан для осадження дисперсії діоксиду силіцію / О. Будішевська, І. Юринець, Ю. Черкас // Актуальні проблеми хімії, матеріалознавства та екології: матеріали ІІІ Міжнародної наукової конференції (Луцьк, 1-3 червня 2023 року). Луцьк, 2023. С.133-134uk_UK
dc.identifier.urihttps://evnuir.vnu.edu.ua/handle/123456789/22465-
dc.format.extent133-134-
dc.language.isoukuk_UK
dc.publisherТеренuk_UK
dc.titleХітозан для осадження дисперсії діоксиду силіціюuk_UK
dc.typeConference Abstractuk_UK
dc.citation.conferenceАктуальні проблеми хімії, матеріалознавства та екології-
dc.contributor.affiliationНаціональний університет «Львівська політехніка», м. Львів, Українаuk_UK
dc.coverage.countryUAuk_UK
dc.coverage.placenameЛуцькuk_UK
Розташовується у зібраннях:Актуальні проблеми хімії, матеріалознавства та екології, 2023

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
133-134.pdf131,89 kBAdobe PDFПереглянути/відкрити
Показати базовий опис матеріалу Перегляд статистики


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.